采用磁桶和同心等离子体源及材料源的等离子体淀积方法及设备

摘要

将导电金属涂敷材料从磁控溅射靶(51)上溅射出来,利用带有射频能量的高密度等离子体使溅射出的导电金属涂敷材料在真空处理空间内离子化,射频耦合能量来自线圈(65),线圈(65)位于真空室(31)外面、绝缘窗(61)后面,真空室壁面(32)上的绝缘窗(61)位于溅射靶(51)的开口(58)的中央位置。真空室的压强为10－100毫乇。磁桶(20)由永磁铁(23)所组成的磁铁阵列(22)形成,在真空室壁面(32)后面,产生一个多磁力线交点的磁场,推斥来自等离子体、朝着真空室壁面(32)方向运动的带电粒子,从而,增强了对等离子体的约束,提高了等离子体密度、等离子体的均匀性及涂敷材料的离子化比例。