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2－烷基－2－金刚烷基5－降冰片烯－2－羧酸酯及其制备方法

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摘要

本发明通供了一种新型降冰片烯羧酸酯化合物及其生产方法。降冰片烯羧酸酯化合物为分子式(1)所示的2－烷基－2－金刚烷基5－降冰片烯－2－羧酸酯,其中R为甲基或乙基。

1. 2－烷基－2－金刚烷基5－降冰片烯－2－羧酸酯及其制备方法 [P] . 中国专利： CN1156435C . 2004.07.07
2. 8－烷基－8－三环癸基5－降冰片烯－2－羧酸酯及其制备方法 [P] . 中国专利： CN1156434C . 2004.07.07
3. 2-alkyl-2-adamantyl 5-norbornene-2-carboxylates and method of producing the same [P] . 美国专利： US6222061B1 . 2001-04-24

机译： 5-降冰片烯-2-羧酸2-烷基-2-金刚烷基酯及其制备方法
4. 2-ALKYL-2-ADAMANTHYL-5-NORBORNENE-2-CARBOXYLATE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME [P] . 日本专利： JP2001233834A . 2001-08-28

机译： 2-烷基-2-金刚烷基-5-降冰片烯-2-羧酸酯及其制备方法
5. New photoresist monomer for producing copolymer for manufacture of semiconductor comprises 5-norbornene-2-carboxylic acid-3-hydroxyalkyl carboxylate or oxabicyclo(2.2.1)-hept-5-ene-2-carboxylic acid-3-hydroxyalkyl carboxylate derivatives [P] . 德国专利： DE19940516A1 . 2000-03-09

机译：用于生产用于半导体制造的共聚物的新型光致抗蚀剂单体包括5-降冰片烯-2-羧酸-3-羟烷基羧酸酯或氧杂双环（2.2.1）-庚-5-烯-2-羧酸-3-羟烷基羧酸酯衍生物