带槽的成形基片制造用原盘的制造方法、带槽的成形基片制造用压模的制造方法、带槽的成形基片的制造方法、带槽的成形基片、存储媒体存储装置和计算机

摘要

对已向表面上涂敷上光刻胶(2)的基片(3),通过透镜(1)线状地照射暴光光。然后使暴光位置从最初的暴光位置(O1)移动到仅仅离开槽宽Gw与脊宽Lw之和的位置(O2),沿着与最初的暴光线平行的线进行暴光,反复进行上述操作,在光刻胶(2)上形成宽度为(Lw)间隔为(Gw)的暴光区域(2e)。然后,使光刻胶显影,除去暴光区域(2e)的部分,把树脂等推压到其上边形成复制原盘。接着,用该复制原盘用电铸法制造压模。然后,用该压模用玻璃或树脂制造带槽的成形基片。脊宽(Lw)由光学系统的有效光斑直径φ决定,槽宽(Gw)可以作成为比脊宽(Lw)小。