法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-02-02
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L27/10 授权公告日:20041110 终止日期:20091019 申请日:19980917
专利权的终止
2004-11-10
授权
授权
1999-06-09
公开
公开
1999-02-10
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
机译: 确定包括集成电路的半导体衬底的x-y空间取向的方法,定位包括集成电路的半导体衬底的方法,处理半导体衬底的方法以及半导体器件
机译: 确定包括集成电路的半导体衬底的X-Y空间取向的方法,设置包括集成电路的半导体衬底的方法,处理半导体衬底的方法以及半导体器件
机译: 确定包括集成电路的半导体衬底的x-y空间取向的方法,定位包括集成电路的半导体衬底的方法,处理半导体衬底的方法以及半导体器件