首页> 中国专利> 边缘限定薄层供料生长法的设备所用湿尖导模

边缘限定薄层供料生长法的设备所用湿尖导模

摘要

EFC生长空心晶体的新颖毛细导模及晶体生长方法。内、外环形迁围绕导模尖部。熔体从坩埚通过通道输送到沟,空心晶体生长过程中,沟中熔体湿润并覆盖内部、外部外侧表面。新颖导模结构有较低的导模尖部和较短毛细槽。可保持围绕导模尖部周边的温度基本均匀,提高导模尖部上生长的管形晶体壁厚的均匀度。该沟可减少因导模被淹没而发生中断或影响晶体生长过程。发生生长弯月面断裂时,该沟载获液态硅,防止或减少发生淹没导模及相关生长设备的现象。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-08-24

    专利权有效期届满 IPC(主分类):C30B15/34 授权公告日:19960710 期满终止日期:20110708 申请日:19910708

    专利权的终止

  • 2007-02-28

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 变更前: 变更后: 申请日:19910708

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2004-08-04

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 变更前: 变更后: 申请日:19910708

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2002-06-12

    其他有关事项

    其他有关事项

  • 1996-07-10

    授权

    授权

  • 1993-10-06

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1992-01-22

    公开

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