首页> 中国专利> 光刻胶和光学应用用的低光密度聚合物和共聚物的制备方法

光刻胶和光学应用用的低光密度聚合物和共聚物的制备方法

摘要

公开了一种制备含聚(4-羟基苯乙烯)或取代的聚(4-羟基苯乙烯)的聚合物的方法。该聚合物在240~260nm波长具有低光密度,在310~800nm也具有低光密度。

著录项

  • 公开/公告号CN1057847A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日1992-01-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 赫希斯特人造丝公司;

    申请/专利号CN91104298.9

  • 发明设计人 米歇尔·时汉;詹姆斯·里;

    申请日1991-06-29

  • 分类号C08F12/12;C08F2/00;G03F7/004;

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利代理部;

  • 代理人陈季壮

  • 地址 美国新泽西

  • 入库时间 2023-12-17 12:19:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 1999-02-10

    专利申请的驳回

    专利申请的驳回

  • 1993-07-14

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1992-01-15

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号