公开/公告号CN108132584B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-12-08
原文格式PDF
申请/专利权人 江苏汉拓光学材料有限公司;
申请/专利号CN201711401557.6
申请日2017-12-22
分类号G03F7/039(20060101);C08F212/14(20060101);C08F212/08(20060101);C08F220/18(20060101);C08F220/20(20060101);C08F220/30(20060101);
代理机构31313 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人林高锋
地址 201612 上海市松江区中心路1158号9号楼4-5楼
入库时间 2022-08-23 11:24:38
机译: -/-含缩醛的羟基苯乙烯/ POSS-甲基丙烯酸酯共聚物和包含相同基团的正型光刻胶组合物
机译: 一种制备包含聚4(羟基苯乙烯)或取代的聚(4-羟基苯乙烯)或两者的聚合物的方法。
机译: 用于消除化学放大的光致抗蚀剂中的微桥的组合物,其包含聚(羟基苯乙烯)的聚合物共混物以及由羟基苯乙烯和丙烯酸单体制成的共聚物