法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-03-16
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C09K3/16 授权公告日:19970226 终止日期:20100125 申请日:19901224
专利权的终止
2002-04-24
其他有关事项 其他有关事项:1992年12月31日以前的发明专利申请,授予专利权且现仍有效的,其保护期限从15年延长到20年。根据国家知识产权局第80号公告的规定,下述发明专利权的期限由从申请日起十五年延长为二十年。在专利权的有效期内,所有的专利事务手续按照现行专利法和实施细则的有关规定办理。 申请日:19901224
其他有关事项
1997-02-26
授权
授权
1993-07-14
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
1991-10-16
公开
公开
机译: 用于形成低透射率抗静电膜的涂覆液,适用于该涂覆液的低透射率抗静电膜,制造低透射率抗静电基体材料的方法以及在该基体上显示设备的方法
机译: 低透射率抗静电膜形成,低透射率抗静电膜的涂层解决方案的制造方法,适用于该涂层溶液的低透射率抗静电膜,低透射率的抗静电基质,以及用于显示该基质的显示装置
机译: 低反射膜涂覆的透明基板,光电转换装置,用于形成低反射膜涂覆的透明基板的低反射膜的涂布液,以及生产低反射膜涂覆的透明基材的方法