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锗硅红外光学镜头镀类金刚石碳膜

摘要

本工艺发明属于在锗硅光学镜头(片)上镀红外超硬膜技术。是在溅射机中,充入丁烷和氩气的混合气体,选择适当的射频电压产生辉光放电,使混合气体电离,在电场作用下,使正离子撞击到负电极上沉积薄膜的方法,从而使锗硅镜头(片)上获得类金刚石超硬膜。; 本发明所镀制出的膜属类金刚石碳膜,它具有机械强度高,耐磨性能好,红外光学特性优良,且适于镀制大面积光学透镜等优点。适用于一切红外光学镜头(片)及光学仪器窗口材料的镀制。

著录项

  • 公开/公告号CN1033653A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日1989-07-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昆明物理研究所;

    申请/专利号CN87105946.0

  • 申请日1987-12-22

  • 分类号C23C14/06;C23C14/40;G02B1/10;

  • 代理机构云南省专利事务所;

  • 代理人李灿

  • 地址 云南省昆明市北郊教场东路32号

  • 入库时间 2023-12-17 12:02:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 1996-02-07

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 1993-03-24

    授权

    授权

  • 1991-05-08

    实质审查请求已生效的专利申请

    实质审查请求已生效的专利申请

  • 1989-07-05

    公开

    公开

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