首页> 中国专利> 金属层制版印刷术中作抗反射涂层用的无定形硅

金属层制版印刷术中作抗反射涂层用的无定形硅

摘要

本发明是对制版方法形成带图案金属层工艺的一种改进。在半导体器件上的金属层上制作抗反射涂层之前先形成一层无定形硅层。这种硅通过吸收光刻胶层的曝光用光,既可防止光从金属层上反射出来,也可防止在光刻胶层上产生凹陷。采用喷镀的无定形硅可省去抗反射层烘烤时所需的严格处理步骤及绕自身旋转抗反射层所需的喷淋显影技术。操作温度为低温,金属和喷镀硅的蚀刻同时进行。

著录项

  • 公开/公告号CN85107650A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日1986-07-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英特尔公司;

    申请/专利号CN85107650

  • 发明设计人 汤志;

    申请日1985-10-17

  • 分类号H01L21/28;H01L21/44;G03G5/00;

  • 代理机构中国专利代理有限公司;

  • 代理人陶令霭

  • 地址 美国加利福尼亚州圣克拉拉·鲍尔斯路3065号

  • 入库时间 2023-12-17 11:57:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 1986-11-26

    申请的撤回

    申请的撤回

  • 1986-07-16

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号