公开/公告号CN111587474A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-08-25
原文格式PDF
申请/专利权人 应用材料公司;
申请/专利号CN201880084977.2
申请日2018-11-13
分类号H01L21/3205(20060101);H01L21/027(20060101);H01L21/311(20060101);H01L21/02(20060101);C23C16/26(20060101);C23C16/02(20060101);C23C16/505(20060101);C23C16/04(20060101);C23C16/56(20060101);
代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;
代理人侯颖媖;张鑫
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2023-12-17 11:49:32
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-08-25
公开
公开
机译: 具有高膜密度和高蚀刻选择性的非晶碳层的沉积
机译: 通过离子注入到非晶碳膜中的高蚀刻选择性硬掩墩材料的研制
机译: 高蚀刻选择性非晶碳膜