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公开/公告号CN111465716A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-07-28
原文格式PDF
申请/专利权人 巴斯夫欧洲公司;
申请/专利号CN201880079174.8
发明设计人 J·T·V·霍格博姆;柯志正;王哲伟;A·克里普;郑怡萍;
申请日2018-12-05
分类号C23F1/14(20060101);H01L21/3213(20060101);H01L21/311(20060101);
代理机构11247 北京市中咨律师事务所;
代理人王丹丹;刘金辉
地址 德国莱茵河畔路德维希港
入库时间 2023-12-17 11:41:09
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-28
公开
机译: 在低k材料,铜和/或钴的层的存在下选择性蚀刻包含铝化合物的层的组合物和方法
机译: 在低介电常数材料,铜和/或钴层的存在下选择性蚀刻包含铝化合物的层的组合物和方法
机译: 在存在低K材料,铜和/或钴的层的情况下有选择地蚀刻包含铝化合物的层的组成和过程
机译:甲基倍半硅氧烷SiOC(H)低k材料和SiC(H)蚀刻停止层的高密度碳氟化合物等离子体蚀刻:表面分析和蚀刻机理研究
机译:InP / InAlAs异质结构的高度选择性和低损伤原子层蚀刻,用于高电子迁移率晶体管制造
机译:低组合物Ge,X型X型X氢(X< = 10%)活性层的生长和表征用于制备氢化底太阳能电池的活性层
机译:高选择性蚀刻比的超厚铜牺牲层选择性湿法蚀刻的有效解决方案
机译:用于铜/二氧化硅和铜/低kappa集成的基于钽和钌的扩散阻挡层/粘附促进剂。
机译:适用于大块热电材料的低导热率(MS)1 + x(TiS2)2(M = PbBiSn)不匹配层化合物
机译:合成一种新的基于聚丙烯腈纤维的沉积吸附剂,该吸附剂具有一层铜-铜亚铁氰化物的沉积层,用于从污水中选择性萃取铯
机译:用于偏置环形激光陀螺仪的磁光材料。报告编号3.(用于评估包含磁性层的多层介电薄膜结构的散射的计算机模型)