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用于铜层和钛层的蚀刻剂组合物及使用该蚀刻剂组合物制造液晶显示器的阵列基板的方法

摘要

本发明公开了一种用于蚀刻铜层和钛层的蚀刻剂组合物以及使用该蚀刻剂组合物制造液晶显示器的阵列基板的方法,该蚀刻剂组合物包括:过硫酸盐和磺基水杨酸,因此,可以以高的蚀刻速度均匀地且环境友好地分批蚀刻具有铜层和钛层的多金属层,且具有优异的热控制性能和在时间上的稳定性。

著录项

  • 公开/公告号CN104911592B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-03-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东友精细化工有限公司;

    申请/专利号CN201510111656.5

  • 发明设计人 刘仁浩;鞠仁说;

    申请日2015-03-13

  • 分类号

  • 代理机构北京同达信恒知识产权代理有限公司;

  • 代理人黄志华

  • 地址 韩国全罗北道益山市

  • 入库时间 2022-08-23 10:08:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-13

    授权

    授权

  • 2015-10-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23F1/18 申请日:20150313

    实质审查的生效

  • 2015-09-16

    公开

    公开

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