公开/公告号CN104911592B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-03-13
原文格式PDF
申请/专利权人 东友精细化工有限公司;
申请/专利号CN201510111656.5
申请日2015-03-13
分类号
代理机构北京同达信恒知识产权代理有限公司;
代理人黄志华
地址 韩国全罗北道益山市
入库时间 2022-08-23 10:08:15
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-03-13
授权
授权
2015-10-14
实质审查的生效 IPC(主分类):C23F1/18 申请日:20150313
实质审查的生效
2015-09-16
公开
公开
机译: 铜和钛层的蚀刻剂组合物及其使用相同的蚀刻铜和钛层的方法
机译: 用于含铜金属层的蚀刻剂组合物,以及用于液晶显示器的阵列基板的制备方法使用
机译: 用于含铜金属层的蚀刻剂组合物,以及用于液晶显示器的阵列基板的制备方法使用