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晶片表面曲率确定系统

摘要

一种用于对晶片(2)的表面(20)的曲率(200)进行原位测量的系统(1),所述系统(1)包括:多波长光源模块(101),适于发射包括多个波长(301;302;303)的入射光(3);光学装置(104),被配置为将所述入射光(3)组合成单个光束(5),并朝向晶片(2)的表面(20)引导所述单个光束(5),使得所述单个光束(5)在所述表面(20)上的单个测量光斑(202)处撞击表面(20);以及曲率确定单元(103),被配置为根据与在所述单个测量光斑(202)处在所述表面(20)上被反射的所述单个光束(5)相对应的反射光(4),确定所述晶片(2)的所述表面(20)的曲率(200)。

著录项

  • 公开/公告号CN111556954A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-08-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 埃皮根股份有限公司;

    申请/专利号CN201880082769.9

  • 申请日2018-12-20

  • 分类号G01B11/255(20060101);H01L21/66(20060101);G01B11/24(20060101);G01B11/30(20060101);G01N21/95(20060101);G01N21/956(20060101);

  • 代理机构51258 成都超凡明远知识产权代理有限公司;

  • 代理人王晖;吴莎

  • 地址 比利时哈瑟尔特

  • 入库时间 2023-12-17 11:41:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-18

    公开

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