单晶硅制绒添加剂、制绒方法以及绒面单晶硅片制备方法

摘要

本发明提供一种单晶硅制绒添加剂，包括：溶剂以及质量比为0.25％～1.5％绒面催化剂、0.1％～3％环糊精和0.52％～1.9％绒面缓蚀剂。还提供一种单晶硅制绒方法，包括：将单晶硅片通过制绒剂制绒，其中，制绒剂包括溶剂以及质量百分比为0.5％～3％碱和体积百分比为0.1％～2％如上述单晶硅制绒添加剂。还提供一种绒面单晶硅片制备方法，包括：将单晶硅片在碱性环境中进行抛光，以去除单晶硅片损伤层；将去除损伤层单晶硅片在碱液中进行清洗，以去除单晶硅片表面杂质；将去除杂质单晶硅片采用如权利要求6～8任意一项单晶硅制绒方法进行制绒；将制绒后单晶硅片在碱液中进行清洗，以去除单晶硅片表面杂质；将去除杂质单晶硅片在酸液中进行清洗。本发明能够在单晶硅片表面制备均匀细密金字塔结构。