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通过反向散射粒子对掩埋特征的检测

摘要

本文中公开了用于使用反向散射粒子检测掩埋特征的设备(100)和方法。在一个示例中,该设备包括:带电粒子的源;平台(30);被配置为将带电粒子的射束引导到平台上支撑的样本(9)的光学器件(16);被配置为检测来自样本的射束中的带电粒子的反向散射粒子的信号检测器(5010);其中信号检测器具有角分辨率。在一个实例中,该方法包括:从样本的区域获得反向散射粒子的图像;基于图像来确定掩埋特征的存在或位置。

著录项

  • 公开/公告号CN111247618A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201880062475.X

  • 发明设计人 汪苏;林嘉文;陈仲玮;叶苍浚;

    申请日2018-09-21

  • 分类号

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人崔卿虎

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2023-12-17 10:24:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/244 申请日:20180921

    实质审查的生效

  • 2020-06-05

    公开

    公开

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