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一种半导体消除内应力的方法

摘要

本发明提供了一种半导体消除内应力的方法,所述方法包括以下步骤:(1)将半导体元件的一面固定在陶瓷板的内表面上,并在半导体元件的另一面覆盖保护膜;(2)对陶瓷板的外表面进行第一次热处理,使陶瓷板的外表面经过10~30分钟升温至130~160℃;然后,对陶瓷板的外表面进行第二次热处理,使陶瓷板的外表面经过5~10分钟升温至190~210℃;(3)对步骤(2)中的陶瓷板外表面进行降温,降温速度为3~7℃/min,至陶瓷板外表面的温度降至常温;(4)去除半导体元件表面覆盖的保护膜。本发明的方法在陶瓷板的背面进行热处理,正面的半导体的内应力得到了降低或者消除的效果,本发明的方法可以和制备半导体的工艺联用,在短时间内大批处理半导体元件,提高了生产效率。

著录项

  • 公开/公告号CN111370318A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东莞新科技术研究开发有限公司;

    申请/专利号CN201811590104.7

  • 发明设计人 郎鑫涛;

    申请日2018-12-25

  • 分类号

  • 代理机构广州三环专利商标代理有限公司;

  • 代理人郝传鑫

  • 地址 523087 广东省东莞市南城区宏远工业区

  • 入库时间 2023-12-17 10:24:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-03

    公开

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