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含有TiAlN纳米层膜的耐磨PVD工具涂层

摘要

本发明涉及一种涂层切削工具及其制造方法,所述涂层切削工具由基材和硬质材料涂层构成,所述基材选自硬质合金、金属陶瓷、陶瓷、立方氮化硼(cBN)、多晶金刚石(PCD)或高速钢(HSS),其中所述硬质材料涂层包含交替堆叠的(Ti,Al)N子层的(Ti,Al)N层堆叠体(L),所述层堆叠体(L)具有如下特征:‑在所述(Ti,Al)N层堆叠体(L)内Ti:Al的总原子比在0.33:0.67至0.67:0.33的范围内;‑所述(Ti,Al)N层堆叠体(L)的总厚度在1μm至20μm的范围内;‑在所述交替堆叠的(Ti,Al)N子层的(Ti,Al)N层堆叠体(L)内每个单独的(Ti,Al)N子层具有在0.5nm至50nm范围内的厚度;‑在所述交替堆叠的(Ti,Al)N子层的(Ti,Al)N层堆叠体(L)内的每个单独的(Ti,Al)N子层在原子比Ti:Al方面与直接相邻的(Ti,Al)N子层不同;‑在垂直于所述基材表面的所述(Ti,Al)N层堆叠体(L)的厚度上,从排列为朝向所述基材的方向的所述(Ti,Al)N层堆叠体(L)的界面到排列为朝向所述涂层外表面的方向的所述(Ti,Al)N层堆叠体(L)的界面,Al的含量增加并且Ti的含量降低;‑在垂直于所述基材表面的所述(Ti,Al)N层堆叠体(L)的厚度上,从排列为朝向所述基材的方向的所述(Ti,Al)N层堆叠体(L)的界面到排列为朝向所述涂层外表面的方向的所述(Ti,Al)N层堆叠体(L)的界面,残余应力σ下降至少150MPa至最多900MPa的量,由此应用基于(2 0 0)反射的sin

著录项

  • 公开/公告号CN111032915A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-04-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 瓦尔特公开股份有限公司;

    申请/专利号CN201880055741.6

  • 申请日2018-08-31

  • 分类号

  • 代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人陈海涛

  • 地址 德国蒂宾根

  • 入库时间 2023-12-17 10:12:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C28/04 申请日:20180831

    实质审查的生效

  • 2020-04-17

    公开

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