原子层沉积腔室部件及其制备方法、以及原子层沉积设备

摘要

本发明涉及一种原子层沉积腔室部件及其制备方法、以及原子层沉积设备。该原子层沉积腔室部件包括主体和疏水性涂层，其中，疏水性涂层形成于主体的表面。上述原子层沉积腔室部件，通过对原子层沉积腔室部件的主体进行处理，在腔室部件的主体的表面形成疏水性涂层，当进行ALD(原子层沉积)工艺时，反应等离子体及反应气体无法沉积在腔室部件的表面，从而使腔室部件的表面始终保持洁净而无法粘附薄膜，进而避免了因腔室部件上的薄膜脱落而形成异物，提高薄膜整体性能。此外，以及使得腔室部件的保养周期大大加长，节省了生产成本，同时还减少了腔室部件的等离子体放电现象。