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一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的合成方法

摘要

本发明涉及一种端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅聚合单体的设计和合成,它是以氯硅烷或氯硅氧烷、羟烷基乙烯基醚和羟烷基烯丙基醚为原料,制备端基为乙烯基醚和烯丙基醚的含硅单体,该反应合成方法简单、反应条件温和,易于提纯,产率较高,均在80%以上。合成的单体为混合聚合型光固化单体,是可用于成像信息记录材料的新型光聚合型材料。本发明有效解决了现有含硅光聚合型单体制备工艺复杂、产率较低、成本较高、环境污染等问题,为光固化材料和光成像信息记录材料开发了一种新的单体。

著录项

  • 公开/公告号CN102140116B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-09-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京师范大学;

    申请/专利号CN201110053569.0

  • 发明设计人 邹应全;方圆;

    申请日2011-03-07

  • 分类号C07F7/18(20060101);C09D4/00(20060101);G03F7/027(20060101);

  • 代理机构11108 北京太兆天元知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人张韬

  • 地址 100087 北京市海淀区新街口外大街19号

  • 入库时间 2022-08-23 09:11:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-06-15

    专利权的转移 IPC(主分类):C07F 7/18 登记生效日:20160523 变更前: 变更后: 申请日:20110307

    专利申请权、专利权的转移

  • 2012-09-19

    授权

    授权

  • 2011-09-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):C07F 7/18 申请日:20110307

    实质审查的生效

  • 2011-08-03

    公开

    公开

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