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衍射装置及无损检测工件内部晶体取向均匀性的方法

摘要

本发明公开了一种衍射装置和无损检测工件内部晶体取向均匀性的方法,装置包括X射线照射系统,其对被测样品的测量部位照射X射线;X射线探测系统,其同时对X射线由被测样品的多个部位衍射而形成的多条衍射X射线进行探测,来测量被测样品的X射线衍射强度分布;探测的X射线为短波长特征X射线;X射线探测系统为阵列探测系统;方法步骤包括:选短波长特征X射线,对待测样品进行织构分析,确定待测衍射矢量Q;获取被测样品相应部位的X射线衍射强度。本发明可以快速无损地检测厘米级厚度工件在其整个厚度方向的内部晶体取向均匀性,可以在生产线上实现厘米级厚度工件在其运动轨迹的整个厚度方向的内部晶体取向均匀性的在线检测与表征。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N23/20 申请日:20181228

    实质审查的生效

  • 2020-07-07

    公开

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