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一种蚀刻液中金属离子的价态变化的获取方法及装置

摘要

本发明提供一种蚀刻液中金属离子的价态变化的获取方法及装置,该方法包括:在石英晶体振荡片上沉积金属材料,得到金属层;采用蚀刻液对所述金属层进行蚀刻;分别获取蚀刻过程中所述石英晶体振荡片的振荡频率的变化量和所述金属层中金属元素的转移电子数的变化量;根据所述振荡频率的变化量获取所述金属元素的质量变化量;根据所述金属元素的质量变化量和所述金属元素的转移电子数的变化量得到所述金属元素的价态变化量。本发明的蚀刻液中金属离子的价态变化的获取方法及装置,能够提高金属离子的价态变化量的准确性。

著录项

  • 公开/公告号CN111289694A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TCL华星光电技术有限公司;

    申请/专利号CN202010119482.8

  • 发明设计人 梅园;

    申请日2020-02-26

  • 分类号

  • 代理机构深圳紫藤知识产权代理有限公司;

  • 代理人张晓薇

  • 地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

  • 入库时间 2023-12-17 09:38:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N33/00 申请日:20200226

    实质审查的生效

  • 2020-06-16

    公开

    公开

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