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熔融盐辅助化学气相沉积生长多层二硒化钨单晶的方法

摘要

本发明属于二维材料领域,公开了一种熔融盐辅助化学气相沉积生长多层二硒化钨单晶的方法,该方法是利用预先设定的温度条件,在小反应室处于预先设定的温度条件下时,卤化物能够熔融与钨源材料反应生成熔点低于钨源材料的中间产物,载气气流则能够携带硒源材料产生的气态硒元素与中间产物产生的气态钨元素在衬底上基于化学气相沉积的原理生长多层二硒化钨单晶。本发明通过对制备方法关键的反应参与物和反应腔室进行改进,使用卤化物与钨源材料混合参与反应,利用卤化物熔融盐与钨源材料反应生成熔点低于钨源材料的中间产物,能够有效控制化学气相沉积生长多层二硒化钨单晶,可控性好且能够制得较大尺寸的多层二硒化钨单晶。

著录项

  • 公开/公告号CN111304738A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN202010181843.1

  • 发明设计人 吴燕庆;宋健;李学飞;

    申请日2020-03-16

  • 分类号C30B25/00(20060101);C30B29/46(20060101);C30B33/00(20060101);C23C16/30(20060101);C23C16/448(20060101);C23C16/455(20060101);C23C16/56(20060101);

  • 代理机构42201 华中科技大学专利中心;

  • 代理人许恒恒;李智

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2023-12-17 09:38:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B25/00 申请日:20200316

    实质审查的生效

  • 2020-06-19

    公开

    公开

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