一种大口径平面光学元件抛光机及抛光和精度控制方法

摘要

本发明公开一种大口径平面光学元件抛光机及抛光和精度控制方法，实现工件的转速及校正板位置的自由调节；避免工件出现转速不均匀甚至不转、反转的情况，同时通过激光位移传感器对抛光盘面形精度进行检测；压电式微位移驱动器控制抛光盘的面形分布以及环境影响因素的控制，从抛光工艺的宏观和微观的物理和化学因素入手，提出一个精准的抛光精度控制工艺及路线；并通过控制抛光工艺主要影响因素，引入新型可控高效抛光新技术，该技术较传统环抛具有可控影响因素多、可主动控制面形精度、高效高精等优点；结果可大大提高大口径平面光学元件加工效率和精度，可为研制大口径平面抛光新技术机床样机，研究大口径抛光技术做重要准备。