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纳米孔测序单元中的双电层电容的测量

摘要

技术涉及测量测序单元的双电层电容。在某些实施方案中,在测序单元中的井上方形成膜之前测量双电层电容。将双电层电容器预充电到初始电压水平。使用具有已知电容值的电容器将双电层电容器反复充电或放电。使用双电层电容器的充电或放电率测定双电层电容。在一些实施方案中,在形成双层和纳米孔后测量双电层电容。将双电层电容器预充电到初始电压水平。然后对测序单元施加不同于初始电压水平的电压水平。使用与双电层电容器上的电压水平的衰减相关联的计时测定双电层电容。

著录项

  • 公开/公告号CN111212919A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 豪夫迈·罗氏有限公司;

    申请/专利号CN201880060869.1

  • 发明设计人 J.科玛迪纳;P.帕瓦兰德;

    申请日2018-09-21

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人石克虎

  • 地址 瑞士巴塞尔

  • 入库时间 2023-12-17 09:12:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):C12Q1/6869 申请日:20180921

    实质审查的生效

  • 2020-05-29

    公开

    公开

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