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一种基于迁移学习确定EUV掩膜版缺陷尺寸的方法

摘要

本发明的一种基于迁移学习确定EUV掩膜版缺陷尺寸的方法,包括以下步骤,S1:针对两种缺陷,在已知的、不同的缺陷尺寸的情况下,通过光刻机投影得到空间像分布,分别收集大量bump样本和少量pit样本;S2:整理两种样本数据,分别分出名为训练集和测试集两部分数据;S3:针对bump样本,利用机器学习算法和训练集中的样本数据,建立并调试EUV掩膜版缺陷尺寸检测模型;S4:采用测试集中的bump样本数据,对EUV掩膜版缺陷尺寸检测模型进行测试,若测试失败则返回步骤S3,若测试通过进入下一步;S5:在S3和S4训练出的EUV掩膜版缺陷尺寸检测模型的基础上,采用pit样本的训练集数据,进一步调试EUV掩膜版缺陷尺寸检测模型,并采用pit样本测试集中的样本数据,对EUV掩膜版缺陷尺寸检测模型进行测试。

著录项

  • 公开/公告号CN111145162A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201911388193.1

  • 申请日2019-12-30

  • 分类号

  • 代理机构南京中盟科创知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人江冬萍

  • 地址 210000 江苏省南京市浦口区江浦街道浦滨路320号科创一号大厦B座21楼

  • 入库时间 2023-12-17 09:04:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06T7/00 申请日:20191230

    实质审查的生效

  • 2020-05-12

    公开

    公开

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