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公开/公告号CN111210848A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-05-29
原文格式PDF
申请/专利权人 新科实业有限公司;
申请/专利号CN201910861052.0
发明设计人 黎韦源;马信杰;
申请日2019-09-11
分类号
代理机构深圳永慧知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人宋鹰武
地址 中国香港新界沙田香港科学园科技大道东6号新科中心
入库时间 2023-12-17 08:59:54
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-29
公开
机译: 用于在热辅助磁记录上改善过渡曲率的系统
机译: 具有成形磁场和热场的热辅助磁记录可最大程度地减小过渡曲率
机译: 用于热辅助记录的涂层型磁记录介质,以及使用相同的热辅助磁记录装置和热辅助磁记录方法
机译:裂隙间隙NFT写头设计,用于减少热辅助磁记录中的过渡曲率
机译:热辅助磁记录中过渡曲率的预测模型
机译:写头场设计,用于校正热辅助磁记录中的过渡曲率
机译:纵向热辅助磁记录系统的过渡特性
机译:用于辅助介质的热辅助磁记录(HAMR)和等离子纳米光刻的磁头-磁盘界面研究。
机译:改进的遗传特征选择的计算机辅助诊断系统用于乳房X线照片中BI-RADS分类
机译:用于校正热辅助磁记录中的过渡曲率的写头场设计
机译:用于热辅助磁记录的波导内的聚焦光耦合光栅。