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一种卤素阴离子插层水滑石正极材料及其制备方法以及卤素阴离子电池

摘要

本发明提供了一种卤素阴离子插层水滑石正极材料及其制备方法以及卤素阴离子电池,属于电化学技术领域。本发明提供的卤素阴离子插层水滑石正极材料的制备方法,包括以下步骤:将两种可溶性金属盐、环六亚甲基四胺和水混合后进行共沉淀反应,然后利用液溴对其进行氧化,得到溴离子插层水滑石纳米片材料,以高浓度氟化钠溶液或氯化钠溶液为原料,采用酸交换法制备氟离子插层水滑石纳米片材料或氯离子插层水滑石纳米片材料;再以该卤素阴离子插层水滑石纳米片材料为原料制备得到卤素阴离子电池的正极材料。本发明提供的方法制备的卤素阴离子插层水滑石纳米片材料形貌为规整的六边形,粒径大,结晶度高、容量大且循环稳定性好。

著录项

  • 公开/公告号CN111268708A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京化工大学;

    申请/专利号CN202010095960.6

  • 申请日2020-02-17

  • 分类号C01F7/00(20060101);H01M4/58(20100101);H01M10/05(20100101);B82Y30/00(20110101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构11569 北京高沃律师事务所;

  • 代理人刘潇

  • 地址 100029 北京市海淀区北三环东路15号

  • 入库时间 2023-12-17 08:47:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):C01F7/00 申请日:20200217

    实质审查的生效

  • 2020-06-12

    公开

    公开

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