首页> 中国专利> 磁性体与BiSb的层叠构造的制造方法、磁阻存储器、纯自旋注入源

磁性体与BiSb的层叠构造的制造方法、磁阻存储器、纯自旋注入源

摘要

磁阻存储器的单元(2)包括包含磁化自由层(12)的MTJ元件(10)和纯自旋注入源(20)。纯自旋注入源(20)包含与磁化自由层(12)连接的BiSb层。通过使面内电流在BiSb层中流动而能够进行磁化自由层(12)的磁化反转。

著录项

  • 公开/公告号CN111095530A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 国立大学法人东京工业大学;

    申请/专利号CN201880059587.X

  • 发明设计人 范南海;阮炯维康;

    申请日2018-09-14

  • 分类号

  • 代理机构北京天达共和知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人张嵩

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 08:42:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/8239 申请日:20180914

    实质审查的生效

  • 2020-05-01

    公开

    公开

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