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具有源极镇流的碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管

摘要

本发明公开了一种集成器件和制作所述集成器件的方法。该集成器件包含多个平面金属氧化物半导体场效应晶体管,后者具有于多个源极区的第一源极区中形成的第一接触区,以及于多个源极区的第二源极区中形成的第二接触区。第一接触区和第二接触区具有掺杂第二导电类型的源极区相应部分,且第一接触区和第二接触区经由结型场效应晶体管区域分离;其中结型场效应晶体管区域的一个平面尺寸长于另一个,且第一接触区和第二接触区经由较长平面尺寸分离。结型场效应晶体管区域通过导电接触至少一个接触区的源极区和体区,界定于对应较长平面尺寸的至少一侧。

著录项

  • 公开/公告号CN110931483A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-03-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 万国半导体(开曼)股份有限公司;

    申请/专利号CN201910876410.5

  • 发明设计人 维平达斯·帕拉;

    申请日2019-09-17

  • 分类号

  • 代理机构上海元好知识产权代理有限公司;

  • 代理人包姝晴

  • 地址 英属西印度群岛开曼群岛大开曼岛KY1-1107邮政信箱709玛丽街122号和风楼

  • 入库时间 2023-12-17 07:38:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-04-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/088 申请日:20190917

    实质审查的生效

  • 2020-03-27

    公开

    公开

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