光刻有效剂量均匀性的确定

摘要

实施例针对用于确定光刻工具的有效剂量的方法和系统。该方法包括使用光刻工具在基板上进行一系列的开放框架曝光，以在抗蚀剂中产生一组受控的曝光剂量块，然后烘烤和显影曝光基板。该方法还包括用斜射光扫描所得到的开放框架图像和捕获从基板表面散射的光。该方法还包括从散射光数据的背景信号生成雾度图，将雾度图转换为图形图像文件，并分析图形图像文件以确定光刻工具的有效剂量，其中图形图像文件的亮度与光刻工具的有效剂量有关。