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用于在衬底上沉积装饰用镍涂层的镍电镀浴

摘要

本发明涉及一种用于在待处理衬底上沉积装饰用镍涂层的镍电镀浴,其特征在于所述电镀浴包含至少一种镍离子源、至少一种氨基酸和/或至少一种不为氨基酸的羧酸;其中所述氨基酸的总浓度在1到10g/l的范围内,其中不为氨基酸的羧酸的总浓度在10到40g/l的范围内;其中所述电镀浴不含硼酸;其中所述镍离子的总浓度在55到80g/l的范围内;且其中所述镍电镀浴具有7.5到40g/l范围内的氯含量。本发明还涉及用于在待处理衬底上沉积镍涂层的方法;和本发明的这种镍电镀浴的用途,其通过实施此方法用于沉积光亮、半光亮、缎光、哑光或含非导电性粒子的镍涂层。

著录项

  • 公开/公告号CN110785516A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-02-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 德国艾托特克公司;

    申请/专利号CN201880042177.4

  • 申请日2018-06-18

  • 分类号C25D3/12(20060101);C25D3/16(20060101);

  • 代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人林斯凯

  • 地址 德国柏林

  • 入库时间 2023-12-17 07:08:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D3/12 申请日:20180618

    实质审查的生效

  • 2020-02-11

    公开

    公开

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