纳米压印光刻方法及由其获得的图案化基底

摘要

本发明涉及纳米压印光刻(NIL)方法领域，更具体地涉及用于在基底上提供溶胶‑凝胶图案化层的软NIL方法。具体地说，该方法包括当将软模具施加到涂覆有溶胶‑凝胶膜的基底上时通过改变溶剂的相对压力将溶胶‑凝胶膜的溶剂吸收调节至10‑50体积％，优选至15‑40体积％的步骤。