基于鲁棒广义预测控制的光电转台位置跟踪控制方法

摘要

基于鲁棒广义预测控制的光电转台位置跟踪控制方法，涉及永磁同步电机跟踪控制技术，提供一种基于鲁棒广义预测控制的光电转台位置跟踪控制方法，简化复杂联级控制结构，提高动态响应性能，同时使系统在受到参数变化和外部扰动时能够保证良好控制效果的位置跟踪方法。本发明所述的跟踪控制方法对比传统的联级位置、速度控制器，通过广义预测控制器被整体应用到位置跟踪和速度跟踪环节中，来简化联级位置、速度跟踪控制器结构，并获得更快的动态响应，同时调节参数少，便于工程实现和在线调整简单等优点。另外，扰动补偿器的应用可以在保证机械环预测控制器结构简单和快速响应不变的情况下，提高系统的鲁棒性和抗扰动性。