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一种实现低导通电阻的增强型氮化镓晶体管的方法

摘要

本发明公开一种实现低导通电阻的增强型氮化镓晶体管的方法,该氮化镓晶体管包括硅衬底;依次设于衬底上的氮化镓沟道层、铝镓氮势垒层;与铝镓氮势垒层相接触的源极和漏极;设于铝镓氮势垒层上除源极漏极以外区域的钝化层;刻蚀掉栅下的钝化层和部分栅下铝镓氮势垒层后形成凹槽结构的栅极。栅极第一层为p型氧化钛,第二层为金属层,p型氧化钛作为栅介质,使得零栅压时耗尽栅极下方的二维电子气,实现增强型的金属绝缘体半导体场效应晶体管结构,同时具有较低的漏电和较高的击穿电压。

著录项

  • 公开/公告号CN110676172A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西交利物浦大学;

    申请/专利号CN201910836167.4

  • 发明设计人 蔡宇韬;王洋;刘雯;赵策洲;

    申请日2019-09-05

  • 分类号

  • 代理机构苏州创元专利商标事务所有限公司;

  • 代理人范晴

  • 地址 215123 江苏省苏州市工业园区独墅湖高等教育区仁爱路111号

  • 入库时间 2023-12-17 06:43:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/336 申请日:20190905

    实质审查的生效

  • 2020-01-10

    公开

    公开

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