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公开/公告号CN110676172A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-01-10
原文格式PDF
申请/专利权人 西交利物浦大学;
申请/专利号CN201910836167.4
发明设计人 蔡宇韬;王洋;刘雯;赵策洲;
申请日2019-09-05
分类号
代理机构苏州创元专利商标事务所有限公司;
代理人范晴
地址 215123 江苏省苏州市工业园区独墅湖高等教育区仁爱路111号
入库时间 2023-12-17 06:43:04
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-02-11
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/336 申请日:20190905
实质审查的生效
2020-01-10
公开
机译: 氮化铝镓/氮化镓高电子迁移率晶体管的制造方法,该晶体管在基于氮化镓的帽段上具有栅极触点
机译: 在基于氮化镓的帽段上具有栅极触点的氮化铝镓/氮化镓高电子迁移率晶体管及其制造方法
机译:增强型氮化镓FET系列增加了100V,16mΩ功率晶体管
机译:氮化镓晶体管实现远程通讯
机译:成功开发出氮化镓(GaN)晶体管的垂直结构-通过将尺寸减小水平结构的1/8来实现成本降低-
机译:增强型镓氮化镓场效应晶体管电力转换器应用中的损失建模
机译:基于铁铝材料的氮化铝镓/氮化镓基高电子迁移率晶体管在多功能光电子声电子应用中的实现。
机译:氮化镓等离子增强原子层沉积对氮化镓基高电子迁移率晶体管的氮化铝表面钝化
机译:增强型氮化镓功率晶体管的创新应用和驱动
机译:氮化铝镓/氮化镓高电迁移率晶体管的二维建模