一种掩模版清洗装置和掩模版清洗方法

摘要

本发明涉及一种掩模版清洗装置，它包括：上料组件；清洗组件，所述清洗组件包括至少一个清洗槽和用于将所述掩模版放入或取出所述清洗槽的机械手，所述清洗槽设置有外槽体和套设在所述外槽体中的内槽体，所述内槽体上设置有溢流口；下料组件。还提供了一种掩模版清洗方法，它包括：获取所述掩模版；将所述掩模版浸入处理液中；通过溢流方式去除处理液上层的杂质；取出所述掩模版。能够提升处理液的清洁度从而更好地清洗掩模版。