公开/公告号CN110658197A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-01-07
原文格式PDF
申请/专利权人 由田新技股份有限公司;
申请/专利号CN201811359824.2
发明设计人 邹嘉骏;安比卡帕亚鲁木鲁甘;林建仲;
申请日2018-11-15
分类号G01N21/88(20060101);
代理机构11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司;
代理人罗英;臧建明
地址 中国台湾新北市中和区连城路268号10楼之1
入库时间 2023-12-17 06:09:10
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-02-04
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/88 申请日:20181115
实质审查的生效
2020-01-07
公开
公开
机译: 瑕疵属性评估方法和瑕疵属性评估系统
机译: 领导效能评估方法及系统
机译: 光刻工艺评估系统,光刻工艺评估方法,曝光系统评估方法,掩模图案设计方法和半导体设备制造方法