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减轻镜面修饰阳极氧化铝中晶粒纹理差异生长速度的处理

摘要

公开了减轻镜面修饰阳极氧化铝中晶粒纹理差异生长速度的处理。描述很适合阳极氧化高反射表面的提供耐用和无缺陷的阳极氧化物膜的阳极氧化处理。在一些实施例中阳极氧化电解液具有基本小于常规II型阳极氧化的硫酸浓度。在一些实施例中电解液包括硫酸和一或多种有机酸的混合物。在另一实施例中硫酸是对于有机酸相对较少的添加剂,主要用来使褪色最小化。该处理使得能够以类似于常规的II型硫酸阳极氧化的方式生长多孔、光学透明和无色的阳极膜,但以更低电流密度和/或更高温度,不损害膜表面硬度。得到的阳极氧化物膜厚度均匀性在{111}、{110}和{100}表面取向的晶粒之间可在5%内。此外阳极氧化物膜具有最小并入的硫酸根,由此避免某些装饰和结构缺陷。

著录项

  • 公开/公告号CN110644031A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苹果公司;

    申请/专利号CN201910902151.9

  • 申请日2016-04-01

  • 分类号C25D11/08(20060101);C25D11/10(20060101);H05K5/02(20060101);

  • 代理机构11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人李玲

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2023-12-17 06:04:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D11/08 申请日:20160401

    实质审查的生效

  • 2020-01-03

    公开

    公开

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