法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-02-18
实质审查的生效 IPC(主分类):C01B32/188 申请日:20191023
实质审查的生效
2020-01-17
公开
公开
机译: 硅插层单层石墨烯的制备方法
机译: 在包含至少一种半导体材料的纳米颗粒上制备包含石墨烯的碳层的方法,以及在包含至少一种半导体材料,特别是金属氧化物和复合材料的纳米颗粒上制备包含石墨烯的碳层的反应容器
机译: 增溶石墨,以制备有用的还原石墨烯,例如制备电容器,包括用金属还原石墨以获得石墨插层化合物,并将该化合物暴露于溶剂以得到还原的石墨烯溶液。