光掩模设计方法以及使用光掩模制造半导体器件的方法

摘要

本发明提供一种光掩模设计方法以及使用光掩模制造半导体器件的方法。在设计光掩模的方法中，作为显影仿真目标的显示图案被分割成多个子显示图案，所述子显示图案被分别地指定有彼此不正交的多个正交坐标系。通过在与被指定给子显示图案的正交坐标系的坐标轴平行的方向上移动该子显示图案的边，来对该多个子显示图案中的每个执行基于模型的OPC(光学邻近修正)。