法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-04-03
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01M4/525 申请公布日:20141224 申请日:20140917
发明专利申请公布后的视为撤回
2014-12-24
公开
公开
机译: 一种以钕,铁,硼为主要成分的稀土粉末或溅射靶的制造方法,由稀土元素或溅射靶构成的粉末,以钕,铁,硼为主成分的稀土磁铁用薄膜或生产方法
机译: 一种以钕,铁,硼为主要成分的稀土粉末或溅射靶的制造方法,由稀土元素或溅射靶构成的粉末,以钕,铁,硼为主成分的稀土磁铁用薄膜或生产方法
机译: 高纯度钕,高纯度钕,溅射靶用稀土磁体以及由高纯度钕构成的高纯度钕成分的制造方法