织构化具有大表面积的基底的方法

摘要

本发明涉及在基底上形成纹理的方法，包括：-在基底上沉积可变形层；-令该可变形层与子印模的织构化面接触；-将涂布的基底与子印模引入到不可渗透性材料制成的袋中；-将该袋及其内容物引入到密封容器中；-从该容器中抽出空气，直到达到最高等于0.5巴的压力；-在向该容器中重新引入空气之前将该袋密封；-将密封的袋及其内容物引入到高压釜中；-施加0.5至8巴的压力和25至400℃的温度15分钟至数小时；-打开该袋；随后-分离该基底与子印模；本发明还涉及一种通过该方法获得的透明组件，包含涂有织构化层的玻璃基底；还涉及该方法用于获得意在提取、引导或重新定向光的基底的用途，或超疏水性或超亲水性基底。