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在LED表面粗糙化中使用特征尺寸和形状控制的改进的光提取

摘要

发光器件(200)的光出射表面的结构特性被控制以便在表面被粗糙化时增加该表面(225)的光提取效率。包括具有对粗糙化过程的不同耐久性的材料的层的发光表面(225)展现出比暴露于相同粗糙化过程的实质上一致的发光表面更高的光提取效率。在GaN-型发光器件(200)中,与通过仅包括GaN材料的表面的常规蚀刻创建的特征相比,光出射表面(225)上或者附近的AlGaN材料的薄层(240)在蚀刻之后创建更尖锐的特征。

著录项

  • 公开/公告号CN104364916A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-02-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 皇家飞利浦有限公司;

    申请/专利号CN201380028774.9

  • 发明设计人 R.辛格;J.E.埃普勒;

    申请日2013-05-22

  • 分类号H01L33/22(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人孙之刚;景军平

  • 地址 荷兰艾恩德霍芬

  • 入库时间 2023-12-17 04:19:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-13

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L33/22 登记生效日:20180326 变更前: 变更后: 申请日:20130522

    专利申请权、专利权的转移

  • 2018-01-19

    授权

    授权

  • 2015-07-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/22 申请日:20130522

    实质审查的生效

  • 2015-02-18

    公开

    公开

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