使用嵌入式电介质波导和金属波导的芯片间通信

摘要

提供了一种装置。存在具有封装基板(304-A)和集成电路(IC)(302-A)的电路组件(206-A1)。封装基板具有微带线(208-A1)，并且IC固定到封装基板且电气耦合到微带线。电路板(202-A)也固定到封装基板。电介质波导(204-A)固定到电路板。电介质波导具有电介质芯体(310-A)，该电介质芯体(310-A)延伸到位于电介质波导和微带线之间的过渡区(314-A)，并且微带线被配置为与电介质波导形成通信链路。

说明书

技术领域

本申请总体涉及芯片到芯片通信，更具体地涉及使用电介质波导 的芯片到芯片通信。

背景技术

最广泛使用的互连系统(在大多数电子器件中采用)采用集成到 印刷电路板(PCB)或背板的金属迹线。对于该类型的系统，集成电 路(IC)被固定到PCB，以便电气耦合到迹线中的一条或多条，从而 允许芯片间或芯片到芯片的通信。这种布置的问题是，已达到数据速 率或数据传输的物理极限，因此，已经或正在开发若干不同类型的通 信链路：光学链路和无线链路。这些开发中的技术每一个均采用传输 介质的使用，即用于光学链路的光纤和用于无线链路的金属波导。

转到图1和图2，可以看到使用无线链路或光学链路的互连系统 100的示例。在该示例中，传输介质104(其为金属波导或光纤)被集 成到PCB 102。IC 106-1和106-2被固定到PCB 102并且与传输介质 104的每个相应端邻近。于是，在理论上，收发器108-1和108-2(对 于光学链路是光学收发器，而对于无线链路是射频(RF)收发器)可 以允许在IC 106-1和106-2之间进行芯片间通信。然而，在实践中， 该芯片间通信不是简单的任务。例如，假设系统100采用光纤链路， 则光学收发器108-1和108-2将具有片上发光二极管(LED)和/或光 电二极管(这对于现有工艺技术是困难的)，其具有光轴。通常，(用 于传输的)LED是具有特定波长或频率的激光二极管，并且传输介质 104(对于该示例是光纤)的大小被设计为适应从LED发射的光的波 长。通常，传输介质104(对于该示例是光纤)是改善带宽的单模光 纤，其具有与从LED发射的光的波长相关的直径。例如，对于近红外 (即，波长在约0.7μm和约3μm之间)，单模光纤一般将具有在约8μm 和约10μm之间的直径。因此，在传输介质104(对于该示例是光纤) 的光轴和LED(或光电二极管)的光轴之间的未对准(即使是几微米) 可能导致低劣的互连或没有互连。因此，精密加工或其它更独特的微 观光学的结构一般是必要的。这对于金属波导同样如此；即精密加工 对于正确对准一般是必要的。用于亚毫米波的金属波导同样是相当有 损耗的，从而基本上限制了波导工作的距离。

因此，存在对改进的互连系统的需求。

常规系统的一些其它示例是：美国专利5,754,948；美国专利 7,768,457；美国专利7,379,713；美国专利7,330,702；美国专利 6,967,347；以及美国专利授权前公开2009/0009408。

发明内容

因此本发明的实施例提供了一种装置。该装置包括：具有第一侧、 第二侧和第一地平面的电路板，其中第一地平面形成在电路板的第一 侧上；固定到电路板的第一侧的封装基板，其中封装基板包括：电气 耦合到第一地平面的第二地平面；与第一和第二地平面基本上平行的 微带线，其中微带线具有：第一部分，其覆盖第二地平面的至少一部 分并且与第二地平面隔开第一距离，其中微带线的第一部分的大小被 设计为具有传播具有一波长的辐射的阻抗；以及第二部分，其覆盖第 一地平面的至少一部分并且与第一地平面隔开第二距离，其中第二距 离大于第一距离，并且其中微带线的第二部分的大小被设计具有传播 具有该波长的辐射的阻抗，并且其中微带线的第二部分位于过渡区内； 集成电路(IC)，其固定到封装基板并且电气耦合到微带线的第一部 分；以及固定到电路板的电介质波导，其中电介质波导包括覆盖第一 地平面的至少一部分并且延伸到过渡区中的芯体。

在一些具体实施方式中，该波长小于或等于约1mm。

在一些具体实施方式中，电介质波导进一步包括包层，并且其中 芯体具有第一介电常数，并且其中包层具有第二介电常数，并且其中 第一介电常数大于第二介电常数。

在一些具体实施方式中，封装基板具有第一侧和第二侧，并且其 中微带线形成在封装基板的第一侧上，并且其中IC固定到封装基板的 第一侧，并且其中第一地平面形成在封装基板的第二侧上。

在一些具体实施方式中，至少一个焊球固定到第一和第二地平面。

在一些具体实施方式中，阻抗大约是50Ω。

在一些具体实施方式中，微带线的第一部分大致是具有约25μm宽 度的矩形，并且其中微带线的第二部分大致是具有约50μm宽度的矩 形。

在另一方面中，提供了一种装置。该装置包括具有第一侧、第二 侧和多个电路板地平面的电路板，其中每个电路板地平面形成在电路 板的第一侧上；多个封装基板，其中每个封装基板固定到电路板的第 一侧，并且其中每个封装基板搭配电路板地平面中的至少一个，其中 每个封装基板包括：电气耦合到其电路板地平面的封装基板地平面； 与其封装基板地平面和其电路板地平面基本上平行的微带线，其中微 带线具有：第一部分，其覆盖其封装基板地平面的至少一部分并且与 其封装基板地平面隔开第一距离，其中微带线的第一部分的大小被设 计为具有传播具有一波长的辐射的阻抗；以及第二部分，其覆盖其电 路板地平面的至少一部分并且与其电路板地平面隔开第二距离，其中 第二距离大于第一距离，并且其中微带线的第二部分的大小被设计为 具有传播具有该波长的辐射的阻抗，并且其中微带线的第二部分位于 过渡区内；多个IC，其中每个IC固定到封装基板中的至少一个并且电 气耦合到其微带线的第一部分；以及固定到电路板的电介质波导网络， 其中来自电介质波导网络的芯体覆盖每个电路板地平面的至少一部分 并且延伸到其过渡区中。

在一些具体实施方式中，电介质波导网络进一步包括具有包层的 多个电介质波导，并且其中芯体具有第一介电常数，并且其中包层具 有第二介电常数，并且其中第一介电常数大于第二介电常数。

在一些具体实施方式中，每个封装基板具有第一侧和第二侧，并 且其中微带线形成在封装基板的第一侧上，并且其中IC固定到封装基 板的第一侧，并且其中封装基板地平面形成在封装基板的第二侧上。

在一些具体实施方式中，至少一个焊球固定到电路板地平面和每 个封装基板的封装基板地平面。

在另一方面中，提供了一种装置。该装置包括：具有第一侧、第 二侧、第一地平面和第二地平面的电路板，其中第一和第二地平面形 成在电路板的第一侧上，并且其中第一和第二地平面彼此隔开；固定 到电路板的第一侧的第一封装基板，其中第一封装基板包括：电气耦 合到第一地平面的第三地平面；与第一和第三地平面基本上平行的第 一微带线，其中第一微带线具有：第一部分，其覆盖第三地平面的至 少一部分并且与第三地平面隔开第一距离，其中第一微带线的第一部 分的大小被设计为具有传播具有一波长的辐射的阻抗；以及第二部分， 其覆盖第一地平面的至少一部分并且与第一地平面隔开第二距离，其 中第二距离大于第一距离，并且其中第一微带线的第二部分的大小被 设计为具有传播具有该波长的辐射的阻抗，并且其中第一微带线的第 二部分位于第一过渡区内；第一IC，其固定到封装基板并且电气耦合 到第一微带线的第一部分；固定到电路板的第一侧的第二封装基板， 其中第二封装基板包括：电气耦合到第二地平面的第四地平面；与第 二和第四地平面基本上平行的第二微带线，其中第二微带线具有：第 一部分，其覆盖第四地平面的至少一部分并且与第四地平面隔开第三 距离，其中第二微带线的第一部分的大小被设计为具有传播具有该波 长的辐射的阻抗；以及第二部分，其覆盖第二地平面的至少一部分并 且与第二地平面隔开第四距离，其中第四距离大于第三距离，并且其 中第二微带线的第二部分的大小被设计为具有传播具有该波长的辐射 的阻抗，并且其中第二微带线的第二部分位于第二过渡区内；第二IC， 其固定到封装基板并且电气耦合到第二微带线的第一部分；以及电介 质波导，其具有：具有第一端和第二端的芯体，其中芯体固定到电路 板并且覆盖第一和第二地平面的至少一部分，并且其中芯体的第一端 延伸到第一过渡区中，并且其中芯体的第二端延伸到第二过渡区中， 并且其中芯体具有第一介电常数；以及固定到芯体的包层，其中包层 具有第二介电常数，并且其中第一介电常数大于第二介电常数。

在一些具体实施方式中，第一和第二封装基板中的每个具有第一 侧和第二侧，并且其中其微带线形成在封装基板的第一侧上，并且其 中其IC固定到封装基板的第一侧，并且其中其第一地平面形成在封装 基板的第二侧上。

在一些具体实施方式中，至少一个焊球固定到第一和第三地平面， 并且至少一个焊球固定到第二和第四地平面。

在一些具体实施方式中，第一和第二微带线中的每个的第一部分 大致是矩形，并且其中第一和第二微带线中的每个的第二部分大致是 矩形。

在另一方面中，提供了一种装置。该装置包括：具有第一侧、第 二侧和第一地平面的电路板；形成在电路板的第一侧中的槽，其中第 一地平面位于槽的至少一部分下面；固定到电路板的第一侧的封装基 板，其中封装基板包括：电气耦合到第一地平面的第二地平面；与第 一和第二地平面基本上平行的微带线，其中微带线具有：第一部分， 其覆盖第二地平面的至少一部分并且与第二地平面隔开第一距离，其 中微带线的第一部分的大小被设计为具有传播具有一波长的辐射的阻 抗；以及第二部分，其覆盖第一地平面的至少一部分并且与第一地平 面隔开第二距离，其中第二距离大于第一距离，并且其中第二微带线 的第二部分的大小被设计为具有传播具有该波长的辐射的阻抗，并且 其中微带线的第二部分位于过渡区内；集成电路(IC)，其固定到封 装基板并且电气耦合到微带线的第一部分；以及电介质芯体，其覆盖 第一地平面的至少一部分，延伸到过渡区中，并且固定在槽中。

在一些具体实施方式中，该装置进一步包括包层，并且其中芯体 具有第一介电常数，并且其中包层具有第二介电常数，并且其中第一 介电常数大于第二介电常数。

在一些具体实施方式中，电路板进一步包括从第一地平面延伸到 电路板的第一侧的通孔，并且其中至少一个焊球固定到第二地平面和 通孔。

在一些具体实施方式中，微带线的第一部分大致是矩形。

在另一方面中，提供了一种装置。该装置包括：具有第一侧、第 二侧和多个电路板地平面的电路板；形成在电路板的第一侧中的槽网 络，其中每个电路板地平面位于槽网络至少一部分下面；多个封装基 板，其中每个封装基板固定到电路板的第一侧，并且其中每个封装基 板搭配(collocated)电路板地平面中的至少一个，其中每个封装基板 包括：电气耦合到其电路板地平面的封装基板地平面；与其封装基板 地平面和其电路板地平面基本上平行的微带线，其中微带线具有：第 一部分，其覆盖其封装基板地平面的至少一部分并且与其封装基板地 平面隔开第一距离，其中微带线的第一部分的大小被设计为具有传播 具有一波长的辐射的阻抗；以及第二部分，其覆盖其电路板地平面的 至少一部分并且与其电路板地平面隔开第二距离，其中第二距离大于 第一距离，并且其中微带线的第二部分的大小被设计为具有传播具有 该波长的辐射的阻抗，并且其中微带线的第二部分位于过渡区内；多 个IC，其中每个IC固定到封装基板中的至少一个并且电气耦合到其微 带线的第一部分；以及电介质芯体网络，其固定在槽网络中并且具有 多个端部，其中来自电介质波导网络的每个端部覆盖电路板地平面中 的至少一个的至少一部分，并且延伸到其过渡区中。

在一些具体实施方式中，电介质波导网络进一步包括具有包层的 多个电介质波导，并且其中芯体具有第一介电常数，并且其中包层具 有第二介电常数，并且其中第一介电常数大于第二介电常数。

在一些具体实施方式中，电路板进一步包括多个通孔，其中每个 通孔在电路板的第一侧和电路板地平面中的至少一个之间延伸，并且 其中至少一个焊球固定到至少一个通孔和至少一个封装基板地平面。

在另一方面中，提供了一种装置。该装置包括：电路板，其具有 第一侧、第二侧、第一地平面和第二地平面；形成在电路板的第一侧 中并且具有第一端和第二端的槽，其中槽的第一端覆盖第一地平面的 至少一部分，并且其中槽的第二端覆盖第二地平面的至少一部分；固 定到电路板的第一侧的第一封装基板，其中第一封装基板包括：电气 耦合到第一地平面的第三地平面；与第一和第三地平面基本上平行的 第一微带线，其中第一微带线具有：第一部分，其覆盖第三地平面的 至少一部分并且与第三地平面隔开第一距离，其中第一微带线的第一 部分的大小被设计为具有传播具有一波长的辐射的阻抗；以及第二部 分，其覆盖第一地平面的至少一部分并且与第一地平面隔开第二距离， 其中第二距离大于第一距离，并且其中第一微带线的第二部分的大小 被设计为具有传播具有该波长的辐射的阻抗，并且其中第一微带线的 第二部分位于第一过渡区内；第一IC，其固定到封装基板并且电气耦 合到第一微带线的第一部分；固定到电路板的第一侧的第二封装基板， 其中第二封装基板包括：电气耦合到第二地平面的第四地平面；与第 二和第四地平面基本上平行的第二微带线，其中第二微带线具有：第 一部分，其覆盖第四地平面的至少一部分并且与第四地平面隔开第三 距离，其中第二微带线的第一部分的大小被设计为具有传播具有该波 长的辐射的阻抗；以及第二部分，其覆盖第二地平面的至少一部分并 且与第二地平面隔开第四距离，其中第四距离大于第三距离，并且其 中第二微带线的第二部分的大小被设计为具有传播具有该波长的辐射 的阻抗，并且其中第二微带线的第二部分位于第二过渡区内；第二IC， 其固定到封装基板并且电气耦合到第二微带线的第一部分；以及具有 第一端和第二端的电介质芯体，其中芯体固定到槽中，并且其中电介 质芯体的第一端覆盖第一地平面的至少一部分，并且其中电介质芯体 的第二端覆盖第二地平面的至少一部分，并且其中芯体的第一端延伸 到第一过渡区中，并且其中芯体的第二端延伸到第二过渡区中，并且 其中电介质芯体具有比电路板的介电常数大的介电常数。

在另一方面中，提供了一种装置。该装置包括：具有第一侧、第 二侧、第一地平面和第一微带线的电路板，其中第一微带线大致与第 一地平面平行；形成在电路板的第一侧中的槽，其中第一地平面位于 槽的至少一部分下面；固定到电路板的第一侧的封装基板，其中封装 基板包括：电气耦合到第一地平面的第二地平面；与第一和第二地平 面基本上平行的第二微带线，其中第二微带线具有：第一部分，其覆 盖第二地平面的至少一部分并且与第二地平面隔开第一距离，其中第 二微带线的第一部分的大小被设计为具有传播具有一波长的辐射的阻 抗；以及第二部分，其覆盖第一地平面的至少一部分并且与第一地平 面隔开第二距离，其中第二距离大于第一距离，并且其中第二微带线 的第二部分的大小被设计为具有传播具有该波长的辐射的阻抗，并且 其中微带线的第二部分位于过渡区内，并且其中第二微带线的第二部 分电气耦合到第一微带线；集成电路(IC)，其固定到封装基板并且 电气耦合到第二微带线的第一部分；金属波导，其固定在槽中，位于 过渡区中并且电气耦合到第一微带线；以及电介质芯体，其覆盖第一 地平面的至少一部分，延伸到金属波导中并且固定在槽中。

在一些具体实施方式中，封装基板具有第一侧和第二侧，并且其 中第二微带线形成在封装基板的第一侧上，并且其中IC固定到封装基 板的第一侧，并且其中第一地平面形成在封装基板的第二侧上，并且 其中封装基板进一步包括从第二微带线的第二部分延伸到封装基板的 第二侧的通孔，并且其中至少一个焊球固定到通孔和第一微带线。

在一些具体实施方式中，通孔进一步包括第一通孔，并且其中电 路板进一步包括从第一地平面延伸到电路板的第一侧的第二通孔，并 且其中至少一个焊球固定到第二地平面和第二通孔。

在一些具体实施方式中，金属波导进一步包括：与第一微带线共 面并且电气耦合到第一微带线的第一极板；与第一极板共面并且电气 耦合到第一极板的第二极板；以及在第二极板和第一地平面之间延伸 的多个波导通孔。

在另一方面中，提供了一种装置。该装置包括：具有第一侧、第 二侧、多个电路板地平面和多个电路板微带线的电路板；形成在电路 板的第一侧中的槽网络，其中每个电路板地平面位于槽网络的至少一 部分下面；多个封装基板，其中每个封装基板固定到电路板的第一侧， 并且其中每个封装基板搭配电路板地平面中的至少一个和电路板微带 线中的至少一个，其中每个封装基板包括：电气耦合到其电路板地平 面的封装基板地平面；与其封装基板地平面和其电路板地平面基本上 平行的封装基板微带线，其中封装基板微带线具有：第一部分，其覆 盖其封装基板地平面的至少一部分并且与其封装基板地平面隔开第一 距离，其中封装基板微带线的第一部分的大小被设计为具有传播具有 一波长的辐射的阻抗；以及第二部分，其覆盖其电路板地平面的至少 一部分并且与其电路板地平面隔开第二距离，其中第二距离大于第一 距离，并且其中封装基板微带线的第二部分的大小被设计为具有传播 具有该波长的辐射的阻抗，并且其中封装基板微带线的第二部分位于 过渡区内；多个IC，其中每个IC固定到封装基板中的至少一个并且电 气耦合到其微带线的第一部分；多个金属波导，其中每个金属波导固 定在槽网络中，位于封装基板中的至少一个的过渡区中，并且电气耦 合到电路板微带线中的至少一个；以及电介质芯体网络，其固定在槽 网络中并且具有多个端部，其中来自电介质波导网络的每个端部覆盖 电路板地平面中的至少一个的至少一部分，并且延伸到其金属波导中。

在一些具体实施方式中，电介质波导网络进一步包括具有包层的 多个电介质波导，并且其中芯体具有第一介电常数，并且其中包层具 有第二介电常数，并且其中第一介电常数大于第二介电常数。

在一些具体实施方式中，每个封装基板具有第一侧和第二侧，并 且其中微带线形成在封装基板的第一侧上，并且其中IC固定到封装基 板的第一侧，并且其中封装基板地平面形成在封装基板的第二侧上， 并且其中每个封装基板进一步包括从其封装基板微带线的第二部分延 伸到其封装基板的第二侧的封装基板通孔，并且其中至少一个焊球固 定到封装基板通孔和其电路板微带线。

在另一方面中，提供了一种装置。该装置包括：电路板，其具有 第一侧、第二侧、第一地平面、第二地平面、第一微带线和第二微带 线，其中第一和第二微带线形成在电路板的第一侧上，并且其中第一 微带线搭配第一地平面并且大致与第一地平面平行，并且其中第二微 带线搭配第二地平面并且大致与第二地平面平行；形成在电路板的第 一侧中并且具有第一端和第二端的槽，其中槽的第一端覆盖第一地平 面的至少一部分，并且其中槽的第二端覆盖第二地平面的至少一部分； 固定到电路板的第一侧的第一封装基板，其中第一封装基板包括：电 气耦合到第一地平面的第三地平面；与第一和第三地平面基本上平行 的第三微带线，其中第三微带线具有：第一部分，其覆盖第三地平面 的至少一部分并且与第三地平面隔开第一距离，其中第三微带线的第 一部分的大小被设计为具有传播具有一波长的辐射的阻抗；以及第二 部分，其覆盖第一地平面的至少一部分并且与第一地平面隔开第二距 离，其中第二距离大于第一距离，并且其中第三微带线的第二部分的 大小被设计为具有传播具有该波长的辐射的阻抗，并且其中第三微带 线的第二部分位于第一过渡区内；第一IC，其固定到封装基板并且电 气耦合到第三微带线的第一部分；固定到电路板的第一侧的第二封装 基板，其中第二封装基板包括：电气耦合到第二地平面的第四地平面； 与第二和第四地平面基本上平行的第四微带线，其中第四微带线具有： 第一部分，其覆盖第四地平面的至少一部分并且与第四地平面隔开第 三距离，其中第四微带线的第一部分的大小被设计为具有传播具有该 波长的辐射的阻抗；以及第二部分，其覆盖第二地平面的至少一部分 并且与第二地平面隔开第四距离，其中第四距离大于第三距离，并且 其中第四微带线的第二部分的大小被设计为具有传播具有该波长的辐 射的阻抗，并且其中第二微带线的第二部分位于第二过渡区内；第二 IC，其固定到封装基板并且电气耦合到第四微带线的第一部分；第一 金属波导，其固定在槽中，位于第一过渡区中并且电气耦合到第一微 带线；第二金属波导，其固定在槽中，位于第二过渡区中并且电气耦 合到第二微带线；具有第一端和第二端的电介质芯体，其中芯体固定 到槽中，并且其中电介质芯体的第一端覆盖第一地平面的至少一部分， 并且其中电介质芯体的第二端覆盖第二地平面的至少一部分，并且其 中芯体的第一端延伸到第一金属波导中，并且其中芯体的第二端延伸 到第二金属波导中，并且其中电介质芯体具有比电路板的介电常数大 的介电常数。

在一些具体实施方式中，封装基板具有第一侧和第二侧，并且其 中微带线形成在封装基板的第一侧上，并且其中IC固定到封装基板的 第一侧，并且其中第一地平面形成在封装基板的第二侧上，并且其中 第一封装基板进一步包括从第三基板微带线的第二部分延伸到第一封 装基板的第二侧的第一通孔，并且其中至少一个焊球固定到第一通孔 和第一微带线，并且其中第二封装基板进一步包括从第四基板微带线 的第二部分延伸到第二封装基板的第二侧的第二通孔，并且其中至少 一个焊球固定到第二通孔和第二微带线。

在一些具体实施方式中，第一和第二金属波导中的每个进一步包 括：与其微带线共面并且电气耦合到其微带线的第一极板；与第一极 板共面并且电气耦合到第一极板的第二极板；以及在第二极板和其电 路板地平面之间延伸的多个波导通孔。

附图说明

图1是常规互连系统的示例的图示。

图2是图1的互连系统沿着剖面线I-I的剖面图。

图3是根据本发明的互连系统的示例的图示。

图4和图5分别是图3的互连系统沿着剖面线II-II和III-III的示 例剖面图。

图5是示出用于图3和图4的微带线的示例布置的立体图。

图7是根据本发明的互连系统的示例的图示。

图8是图7的互连系统沿着剖面线IV-IV的示例剖面图。

图9是根据本发明的互连系统的示例的图示。

图10是图9的互连系统沿着剖面线VI-VI的示例剖面图。

图11是图7和图9的互连系统分别沿着剖面线V-V和VII-VII 的示例剖面图。

图12是图10和图11的金属波导的立体图。

具体实施方式

转到图3-6，可以看到根据本发明的互连系统200-A的示例。在该 示例系统200-A中，电路组件206-A1和206-A2能够通过被固定(即， 胶合)到PCB 202-A的电介质波导204-A彼此通信。电路组件206-A1 和206-A2可以由IC 302-A形成，IC 302-A通过球栅阵列(BGA)或 焊球(其以虚线示出)固定到封装基板304-A(其可以例如是PCB)。 封装基板304-A接着可以用BGA或焊球(即，焊球301-A)固定到PCB 202-A，从而允许IC 302-A电气耦合到至少一个焊球。在封装基板304-A 和PCB 202-A之间还可以包括底部填充层303-A，从而为电路组件 206-1和206-2提供额外的机械支撑。封装基板304-A和PCB 202-A可 以分开例如约0.25mm。电介质波导系统的其它示例可以在2010年9 月21日提交的题为“HIGH SPEED DIGITAL INTERCONNECT AND  METHOD”的共同未决的美国专利申请12/887,270以及2010年9月 21日提交的题为“CHIP TO DIELECTRIC WAVEGUIDE INTERFACE  FOR SUB-MILLIMETER WAVE COMMUNICATIONS LINK”的共同 未决的美国专利申请12/887,323中找到。每个共同未决的申请出于所 有目的通过引用合并到此。

为提供芯片间链路，封装基板304-A和PCB 202-A包括天线系统。 用于该示例(其示出电路组件206-A1)的天线系统一般包括微带线(其 是与封装基板304-A集成的导电层)、地平面306-A(其是与封装基板 304-A集成的导电层)以及地平面308-A(其是与封装基板308-A集成 的导电层)。如示出并且例如，地平面308-A通过焊球301-A(其可以 允许地平面306-A和308-A电气耦合到一起)耦合到地平面306-A。 如在该示例中示出，电介质波导204-A被固定到与电路组件206-A1和 206-A2相同的一侧或表面，并且延伸到过渡区314-A中，在过渡区 314-A中，芯体310-A的一部分位于地平面308-A和微带线208-A1的 部分之间。通常，微带线208-A1(其通过封装基板304-A电气耦合到 IC 302-A)的大小被设计为传输亚毫米(即，波长在约0.5mm和约1mm 之间或小于约1mm)或太赫兹辐射(即，在约100GHz和约1THz之 间)。对于该示例，微带线208-1具有两个部分，其边界在过渡区314-A 处，从而允许RF或无线信号被传输到电介质波导204-A。微带线208-A1 的一个部分(其被示为从IC 302-A延伸到过渡区314-A)大致与地平 面306-A1平行，从而允许电场在微带线208-A1和封装基板304-A中 的地平面306-A1之间延伸。因为微带线208-A1和地平面306-A1之间 存在相对短的距离(即，约0.2mm)，所以微带线208-A1的这个部分 可以是窄的，以实现期望的阻抗(即，约50Ω)。在过渡区处，微带 线208-A1及其地平面(其为地平面308-A)之间的间隔存在台阶增加 (即，约0.25mm)。由于增加，微带线208-A1的该部分更宽，以便 具有匹配阻抗(即，约50Ω)。于是，这可以允许RF信号直接从电路 组件206-A1和206-A2传播。虽然在过渡区314-A处的边界是陡峭的， 但是大多数问题(即，反射)可以通过在IC 302-A内使用信号处理(即， 预失真)来补偿或过滤。

微带线208-A1也可以具有其它形状。在图5中，可以看到用于微 带线208-A1的示例配置。对于该配置，微带线208-A1具有两个部分 209和211。如示出，部分209可以作用电气耦合到IC 302-A的馈线， 而部分211相对于部分209的宽度展宽。这个展宽可以借助锥形(taper) 来实现，但是如示出，部分211的电气耦合到部分209的端部是圆的。

为了进一步提高效率，电介质波导204-A和PCB 202-A可以合适 配置。通常并且如在该示例中所示，芯体310-A(其可以例如由Rogers 公司的聚酰胺、聚脂、RO3006^TM或RO3010^TM形成，并且可以例如具 有约0.5mm的高度)被固定到PCB 202-A(其可以例如由Rogers公司 的RO3003^TM形成)，包层312-A基本上围绕芯体310-A的其余部分。 包层312-A和PCB 202-A均具有比芯体310-A低的介电常数，并且包 层312-A可以具有与PCB 202-A相同或类似的介电常数。这允许电场 被限制到芯体310-A。此外，电介质波导204-A的大小可以被设计为适 应从天线系统发射的辐射的波长(即，亚毫米波长)。

替代地，如在图7-12中示出，电介质波导312-B、C可以与PCB 202-B、C集成。对于这些示例，可以在PCB 202-B、C中布线槽/沟道， 并且电介质波导204-B、C可以被固定到PCB 202-B、C的槽中。如所 示并且与芯体310-A类似，芯体310-B、C延伸到过渡区314-B、C中。 PCB 202-B、C也可以用作包层312-B、C，如在图11的示例中示出， 但是替代地，在槽中可以包括包层材料。此外，可以省略包层312-B、 C的在PCB 202-B、C上方延伸的部分(其以虚线示出)。固定到槽的 芯体310-B、C的端部也可以是锥形的(例如，如在图8中示出)或为 “方形”(例如，如在图10中示出)。当为锥形时，台阶可以例如以 大约5密耳在深度上递增。

在图7和图8中，可以看到用于天线系统和过渡区314-B的一个 示例配置(系统200-B)。用于电路组件206-B1的天线系统(例如) 一般由微带线208-B1(其位于封装基板304-B中并且电气耦合到IC 302-B)和地平面306-B(其位于封装基板304-B内，并且大致与微带 线208-B1的一部分平行且与之隔开)组成。例如，微带线208-B1的 该部分(其被示为从IC 302-B延伸到与过渡区314-B的边界)和地平 面306-B可以隔开约0.2mm。地平面308-B(其如示出并且例如位于 PCB 202-B中)在过渡区314-B内与微带线208-B1的该部分平行且与 之隔开。在微带线208-B1之间的距离也可以例如与地平面308-B隔开 约1mm的距离。通过具有这种配置，微带线208-B1的宽度以及在微 带线208-B1和地平面308-B之间的距离的大小可以被设计为提供期望 的阻抗(即，约50Ω)。通常，对于该示例，微带线208-B1的各部分 大致是矩形，其中在过渡区中的部分更宽。例如，宽度可以具有实现 约50Ω的期望阻抗的宽度。如在该示例中示出，还存在通孔316，其 从地平面308-B的一侧延伸，从而允许地平面308-B(即，通过焊球 301-B)电气耦合到地平面306-B。

在图9和图10中，可以看到用于天线系统和过渡区314-C的另一 个示例配置(系统200-C)。用于电路组件206-C1的天线系统(例如) 一般由微带线208-C1(其位于封装基板304-C中并且电气耦合到IC 302-B)、微带线320-1(其位于PCB 202-C中)、地平面306-C(其 位于封装基板304-C内并且大致与微带线208-C1的一部分平行)和通 孔318(其在封装基板304-C的一侧和微带线208-C1之间延伸，并且 其允许微带线208-C1通过焊球301-C”电气耦合到微带线320-1)组成。 例如，微带线208-C1的该部分(其被示为从IC 302-C延伸到与过渡区 314-C的边界)和地平面306-C可以隔开约0.2mm。地平面308-B(其 如示出并且例如位于PCB 202-B中)在过渡区314-C内与微带线208-C1 的该部分平行并且与之隔开。在微带线208-B1之间的距离也可以例如 与地平面308-B隔开约1mm的距离。通过具有这种配置，微带线208-C1 的宽度以及在微带线208-B1和地平面306-C之间的距离的大小可以被 设计为提供期望的阻抗(即，约50Ω)。通常，对于该示例，微带线 208-C1的一个部分(其被示为从IC 302-C延伸到过渡区314-C)具有 大小被设计为提供期望阻抗(即，约50Ω)的宽度(即，约25μm)， 并且另一个部分(其被示为从过渡区314-C的边界延伸到封装基板 304-C的边缘)的大小被设计为允许过渡到微带线320-1(其大小也被 设计为承载该辐射)和地平面308-B之间的区域。通常，被示为从IC 302-C延伸到过渡区314-C的微带线208-C1的那部分一般比被示为从 过渡区314-C的边界延伸到封装基板304-C的边缘的微带线208-C1的 那部分宽。如在该示例中示出，还存在通孔316，其从地平面308-B的 一侧延伸，从而允许地平面308-C(即，通过焊球301-C’)电气耦合到 地平面306-C。

作为过渡区314-C的一部分，还存在电介质波导204-C的芯体 310-C在其中延伸的金属波导322，并且金属波导322的示例在图12 中示出。为了实现与电介质波导204-C的期望耦合(用于系统200-B 的任一个)，金属波导322可以由极板402和404、地平面308-C与通 孔408形成。如在该示例中示出，极板404(其例如可以由铜形成，并 且电气耦合到微带线320-1)包括狭窄部分和锥形部分，并且大致与极 板406(例如其可以由铜形成)平行。极板404的狭窄部分的宽度被选 择为实现期望的阻抗(即，以便匹配来自系统200-C的天线系统的阻 抗)。极板402也可以与极板404大致共面并且电气耦合到极板404。 此外，通孔408在该示例中被示为在极板402和地平面308-C之间延 伸，使得极板402和404以及地平面308-C电气耦合到一起。通孔408 也是间隔开的，使得电介质波导204-C可以延伸到金属波导322中。 此外，电介质波导204-C的端部的形状会影响过渡区314-C的特性， 并且在该示例中，电介质波导的端部(其延伸到金属波导322中)是 锥形的。然而，其它形状是可能的。

本领域技术人员将理解，在所主张的发明的范围内，可以进行许 多修改，并且许多其它实施例是可能的。