法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-09-19
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B29B7/14 申请公布日:20150128 申请日:20140821
发明专利申请公布后的驳回
2015-02-25
实质审查的生效 IPC(主分类):B29B7/14 申请日:20140821
实质审查的生效
2015-01-28
公开
公开
机译: 制造掩模坯料基板的方法,制造多层涂覆有反射膜的基板的方法,制造反射掩模坯的方法,制造反射型掩模的方法,涂覆有多层反射膜的基板,反射掩模的坯料,反射型掩模,透射型,掩模坯料的制造方法,制造方法以及透射型掩模的半导体装置的制造方法
机译: 用于掩模坯料的衬底,制造多层反射膜涂覆的衬底的方法,反射掩模坯料,反射掩模,用于掩模掩模坯的衬底的制造方法和多层反射膜涂覆的衬底的制造方法以及半导体器件。
机译: 改性聚四氟乙烯细孔径膜的生产方法和改性聚四氟乙烯多孔树脂膜复合物的生产方法