一种用于SiC外延的感应加热装置

摘要

本发明涉及半导体设备感应加热装置，具体涉及一种用于SiC外延设备的感应加热装置，包括石墨盘和石墨盘下方的感应线圈，所述感应线圈为等螺距的平面螺旋型线圈，且感应线圈与石墨盘平行，所述感应线圈底端安装多组用于调节感应线圈与石墨盘之间距离的距离调节机构，每组距离调节机构包括多根沿感应线圈径向安装在每圈螺旋线底端的调节杆、设在调节杆底端的调节杆安装板。本发明所述用于SiC外延的感应加热装置可以实现SiC外延工艺所需的高温，并且通过旋转调节杆调节感应线圈与石墨盘之间的距离来保证温度场的均匀性。