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氟基光学薄膜的离子束沉积

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本公开的技术利用解离的氟(120)以及氢和氧二者之一或二者(122)辅助使用离子溅射沉积的具有低光学耗损的金属-氟化物薄膜的沉积。所述解离的氟以及氢和氧二者之一或二者都注射进入其中发生所述溅射沉积操作的外壳(116)。所述解离的氟以及氢和氧二者之一或二者辅助从靶(104)溅射金属-氟化物材料和/或将所述溅射的金属-氟化物材料(110)沉积于一种或多种基材(106)上。

著录项

公开/公告号CN103930593A

专利类型发明专利
公开/公告日2014-07-16

原文格式PDF
申请/专利权人威科仪器有限公司;
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申请/专利号CN201280055562.5
发明设计人大出爱子;贾森·乔治;莱昂纳德·J·马奥尼;
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申请日2012-11-12
分类号C23C14/46;C23C14/06;
代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司;
代理人余刚
地址美国纽约
入库时间 2023-12-17 00:45:42

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2016-08-17

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C14/46 申请公布日:20140716 申请日:20121112

发明专利申请公布后的视为撤回
2014-12-10

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/46 申请日:20121112

实质审查的生效
2014-07-16

公开

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