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一种基于纳米压印制备GaN基光子晶体LED的方法

摘要

本发明提出一种基于纳米压印制备GaN基光子晶体LED的方法,包括(1)在蓝宝石衬底上依次外延生长N-GaN层、多量子阱有源区和P-GaN层,形成GaN基LED外延结构片;(2)对纳米压印硬模板进行防粘处理;(3)制备具有与所述硬模板互补图案的软模板;(4)在外延结构片上分别蒸镀掩膜层和纳米压印紫外胶层;(5)紫外压印经蒸镀处理后的器件,脱模,形成具有光子晶体的图案片;(6)刻蚀所述图案片,进行后续处理即可制得光子晶体LED。本发明利用纳米压印紫外胶层和蒸镀掩膜层相结合作为掩膜,能够克服GaN外延片表面不平整而导致压印困难的问题,从而使光子晶体的有效孔深更大。

著录项

  • 公开/公告号CN102157643B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-09-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN201110087571.X

  • 申请日2011-04-08

  • 分类号

  • 代理机构华中科技大学专利中心;

  • 代理人李佑宏

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2022-08-23 09:11:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-05-28

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 33/00 授权公告日:20120926 终止日期:20130408 申请日:20110408

    专利权的终止

  • 2012-09-26

    授权

    授权

  • 2011-09-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 33/00 申请日:20110408

    实质审查的生效

  • 2011-08-17

    公开

    公开

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