公开/公告号CN103834933A
专利类型发明专利
公开/公告日2014-06-04
原文格式PDF
申请/专利权人 中山市创科科研技术服务有限公司;
申请/专利号CN201310567234.X
申请日2013-11-14
分类号
代理机构中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙);
代理人吴剑锋
地址 528400 广东省中山市火炬开发区创业大厦229号
入库时间 2024-02-19 23:36:50
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-03-15
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C16/48 申请公布日:20140604 申请日:20131114
发明专利申请公布后的驳回
2014-07-02
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/48 申请日:20131114
实质审查的生效
2014-06-04
公开
公开
机译: 等离子体化学气相沉积法涂覆SIO2-X的文章及等离子体促进化学气相沉积膜的形成
机译: 等离子体化学气相沉积法涂覆SIO2-X的文章及等离子体促进化学气相沉积膜的形成
机译: 自支撑化学气相沉积金刚石膜和制备自支撑化学气相沉积金刚石膜的方法