法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-10-19
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B24B29/02 申请公布日:20140409 申请日:20120730
发明专利申请公布后的视为撤回
2014-08-20
实质审查的生效 IPC(主分类):B24B29/02 申请日:20120730
实质审查的生效
2014-04-09
公开
公开
机译: 一种制造半导体器件的方法,该方法包括在pH值为3.0至5.5的cmp组合物存在下,对元素锗和/或sixgex材料进行化学机械抛光。
机译: 一种制造半导体器件的方法,该方法包括在pH值为3.0至5.5的CMP成分存在下,对元素锗和/或Si1-xGex材料进行化学机械抛光。
机译: 具有pH值的CMP组成的含锗元素和/或SI